Galvanotecnia
Nuestros clientes en el interior y el extranjero aprecian el excelente rendimiento de nuestros baños galvánicos que producen una precipitación metálica óptima también bajo condiciones duras. Los electrólitos se prestan para productos de bastidor al igual que para el galvanizado en aparatos con tambor.
Galvanotecnia
CHELUX®
Electrolito de cobre cianurado. Produce una densa capa fina y cristalina.
RUBIN
Baño cúprico de brillo. Sistema de acidez sulfúrica con colorante. Produce precipitaciones dúctiles, alisados y de alto brillo en instalaciones de bastidor y tambor.
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| RUBIN F 2000 | Electrolito de Cobre ácido a base de tinte, de dos componentes y solución de formación. |
| RUBIN F 1000 | Electrolito de Cobre ácido a base de tinte, de un solo componente y solución de formación. |
| RUBIN T 200 | Electrolito de Cobre ácido sin tinte y sin metanol. |
Pre ORION
Electrolito de Níquel semi-brillante, sin azufre, Debido a la elevada diferencia de potencial en relación a los depósitos anteriores de níquel, el sistema aporta una excelente resistencia a la corrosión.
ORION®, SIRIUS® y POLARIS
Electrólitos de níquel brillante. Para precipitaciones de alto brillo, dúctiles y muy alisados en un espectro extenso de densidad de corriente de brillo.
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| ORION 3000+ | Apropiado para la aplicación a bastidor con buenos resultados de nivelación y eficiencia. |
| ORION 4000 | Apropiado para la aplicación a bastidor con elevados resultados de nivelación y eficiencia. |
| SIRIUS | Apropiado para la aplicación a bastidor con buenos resultados de nivelación y eficiencia. |
| POLARIS GT 10 | Apropiado para la Aplicación a bastidor. |
| POLARIS GT 24 | Apropiado para la Aplicación a bastidor. |
MERKUR
Electrólitos para capas de níquel con efecto de brillo perlino.
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| MERKUR C | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con una concentración de níquel superior a 105 g/l. |
| MERKUR D | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con una concentración de níquel superior a 105 g/l. |
| MERKUR E | Sistema de deposición finamente disperso con un bajo contenido metálico. |
| MERKUR G | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con bajo contenido metálico. |
| MERKUR H | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con una concentración de níquel superior a 105 g/l. |
| MERKUR I | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con una concentración de níquel superior a 105 g/l. |
| MERKUR K | Deposición de la emulsion en combinación con una unidad o equipo de frio – calor. |
| MERKUR L | Sistema de deposición de la dispersión para electrolitos con una concentración de níquel superior a 105 g/l. |
SAPHIR®
Procedimiento de cromo brillante tri y hexavalente con excelente dispersión de brillo de profundidad. Puede emplearse en todos los equipos habituales.
Electrolitos de Cromo brillante
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| SAPHIR 14 | Electrolito de Cromo hexavalente |
| SAPHIR 17 | Electrolito de Cromo hexavalente |
| SAPHIR 1038 | Electrolito de Cromo trivalente en base Cloruros. |
| SAPHIR 2000 | Electrolito de Cromo trivalente en base Sulfatos. |
Electrolito de Cromo Negro
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| SAPHIR TS | Excelentes propiedades de recubrimiento y cortos tiempos de exposición. |
SURFAPLATE
Pretratamiento de plástico
Pretratamiento de plástico para el sistema coloidal
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| SURFAPLATE ET–KS | Mordentado Ácido crómico / Ácido sulfúrico. |
| SURFAPLATE Reductor | Reducción del Cromo hexavalente. |
| SURFAPLATE Activator–KS | Activado, paladio colloidal. |
| SURFAPLATE Accelerator–KS | Acelerador para eliminación del Estaño coloidal, agrio. |
| SURFAPLATE Accelerator–ALC | Acelerador para eliminación del Estaño coloidal, alcalino. |
| SURFAPLATE EN 1000 | Electrolito de Níquel químico, sin amoniaco. |
| SURFAPLATE EN 2000 | Electrolito de Níquel químico, contiene amoniaco. |
Proceso de Metalización Directa
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| SURFAPLATE ET | Mordentado Ácido crómico / Ácido sulfúrico para la metalización directa |
| SURFAPLATE Reductor | Reducción del cromo hexavalente |
| SURFAPLATE Activator | Activación del paladio de elevada actividad para la metalización directa |
| SURFAPLATE Selector | Formación de la base conductora sobre la cual se puede aplicar directamente la capa de cobre ácido |
TOPAS®
Procedimiento alcalino/exento de cianuro de zinc. Excelente aptitud de dispersión, precipitaciones dúctiles y libres de tensión; excelente reparto de capas.
TOPAS 4100 también puede utilizarse como electrolito de zinc-hierro con nuestro aditivo TOPAS Fe Additive.
OPAL®
Procedimiento alcalino de zinc/níquel
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| OPAL 5000 | Procedimiento alcalino de zinc níquel. Precipitaciones brillantes en artículos de bastidor y de tambor; excelente dispersión de brillo profundo y reparto metálico; manejo sencillo y seguro. |
| OPAL 7000 | Proceso de zinc níquel alcalino desarrollado especialmente para la aplicación a bastidor. Soporta de manera segura las altas densidades de corriente. Recubrimiento de Zinc Niquel de excelente ductilidad y además permite la deformación posterior de las piezas. Se pueden conseguir desde recubrimientos brillante hasta recubrimientos mate de acabado técnico según los diferentes ajustes. |
KORONA®, SYSTOTIN
Baño de estaño brillante ácido
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| KORONA® |
|
| SYSTOTIN |
|
TURMALIN
Electrólito cúprico alcalino/libre de cianuro. Precipitaciones densas, de adherencia firme y de brillo sedoso con excelente capacidad de dispersión y de recubrimiento.
SAPHIR® Cromo duro
Tratamiento de cromo duro con un rendimiento de corriente especialmente elevado. Disponible con diferentes sistemas de catalizador.
| Tipo | Descripciòn |
|---|---|
| SAPHIR 25 | Electrolito de cromo duro de rápida deposición, sin floruros. Requiere el uso de ànodos de titiano platinizados. |
| SAPHIR 40 | Electrolito de cromo duro de rápida deposición, sin floruros. |
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PROMAT
Baños de cianuro de zinc. Elevado grado de brillo en el área entera de densidad de corriente. Para productos de bastidor y tambor.